Čisticí maska Madagascar Centella Poremizing Clarifying

Name: Čisticí maska Madagascar Centella Poremizing Clarifying
Brand: SKIN1004
SKU: SKN-MSK-07
Price: 1.90 EUR
Availability: InStock

€1,90 €2,95

Včetně daní. Poštovné vypočítané při dokončení objednávky.

Madagascar Centella Poremizing Clarifying Mask od Skin1004 je plátýnková pleťová maska vyvinutá k čištění pórů, regulaci nadměrné tvorby kožního mazu a zklidnění pleti. Její esence pomáhá zanechat pleť po každém použití čistší, vyváženější a komfortnější.

- Pomáhá čistit póry a redukovat nadměrnou tvorbu kožního mazu
- Zklidňuje pleť a pomáhá redukovat zarudnutí
- Zjemňuje texturu pleti a zanechává ji hladší

Vhodná pro mastnou, smíšenou, citlivou pleť a pleť se sklonem k nedokonalostem.

Maska Skin1004 Madagascar Centella Poremizing Clear Mask je plátýnková maska určená k intenzivní péči o póry a mastnou pleť nebo pleť se sklonem k nedokonalostem. Její lehká esence pomáhá odstraňovat nečistoty, kontrolovat nadměrnou tvorbu kožního mazu a zlepšovat vzhled textury pleti, aniž by způsobovala pocit vysušení.

Je obohacena o madagaskarskou Centella Asiatica, která pomáhá zklidňovat citlivou pleť a redukovat zarudnutí, zatímco kaolin a minerální soli pomáhají absorbovat přebytečný maz a čistit póry. Složení dále obsahuje panthenol a kyselinu hyaluronovou pro udržení hydratace a komfortu pleti, která je po každém použití svěžejší, sjednocenější a vyváženější.

Extrakt z pupečníku asijského: pomáhá zklidnit pleť a posílit kožní bariéru.
Kaolin: absorbuje přebytečný maz a pomáhá čistit póry.
Panthenol: hydratuje a pomáhá zmírnit pocit nepohodlí.
Hyaluronát sodný: poskytuje hydrataci a pomáhá udržovat pleť v rovnováze.
Salicylát betainu (BHA): podporuje jemnou exfoliaci a pomáhá udržovat póry průchodné.

Úplné složení:
Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Glycereth-26, Butylene Glycol, Panthenol, Hydroxyacetophenone, Polyglyceryl-10 Laurate, Carbomer, Caprylyl Glycol, Arginine, Centella Asiatica Extract, 1,2-Hexanediol, Adenosine, Pentylene Glycol, Xanthan Gum, Propanediol, Ethylhexylglycerin, Allantoin, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Malic Acid, Hibiscus Flower Ferment Filtrate, Citric Acid, Tromethamine, Betaine Salicylate, Glycolipids, Gluconolactone, Mentha Arvensis Leaf Oil, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Collagen, Mineral Salts, Capryloyl Salicylic Acid.

Výrobce může složení bez předchozího upozornění změnit.

1. Po vyčištění a použití tonika naneste masku na obličej.
2. Přizpůsobte ji konturám obličeje.
3. Nechte působit 10 až 20 minut.
4. Masku sejměte a zbývající esenci jemně vmasírujte, dokud se zcela nevstřebá.

Tip: Používejte 1 až 2krát týdně nebo kdykoli pleť potřebuje čisticí a zklidňující péči.